德國Hellma材料的CaF?（氟化鈣）晶體是一種高性能光學材料，具有從深紫外到紅外波段的高寬帶透射率、低折射率、低光譜色散、出色的激光耐久性和抗輻照能力，廣泛應用于精密光學、半導體制造、天文觀測、激光技術及科研醫(yī)療等領域。

　　一、核心參數與關鍵性能（Lithotec®系列）

　　參數項數值應用價值

　　透射波段130nm–8μm（深紫外至紅外）覆蓋準分子激光、紅外光學全鏈路

　　折射率（nd）1.43384低光學損耗，適配精密光學系統(tǒng)

　　阿貝數（vd）95.23低色散，減少色差，適合光刻/激光系統(tǒng)

　　折射率均勻性<5ppm確保光束一致性，滿足微光刻高精度要求

　　晶體結構立方晶系，(111)解理面易定向切割，適配不同光學設計

　　熱導率9.71W/(m·K)快速散熱，適配高功率激光場景

　　激光耐久性157/193/248nm高抗損傷準分子激光光刻長期穩(wěn)定使用

　　二、核心光學特性

　　高寬帶透射率

　　透光范圍覆蓋130nm（深紫外）至8μm（紅外），部分資料顯示可達9μm，甚至10μm，滿足真空紫外（VUV）、深紫外（DUV）、可見光及紅外（IR）等多波段需求。

　　在193nm（深紫外光刻）波長下，內透過率超過99.3%/cm，應力雙折射小于5nm/cm，確保光刻機物鏡系統(tǒng)的精度。

　　低折射率與低色散

　　折射率nd=1.43384，阿貝數vd=95.23，低色散特性使其在色校正光學系統(tǒng)中（如天文望遠鏡、高清鏡頭）能顯著提升成像質量。

　　激光耐久性

　　對157nm、193nm、248nm等準分子激光波長具有優(yōu)異耐受性，適用于光刻激光光學器件和光束傳輸系統(tǒng)，延長組件壽命。

　　抗輻照與耐環(huán)境性

　　抵抗高能粒子輻射，適用于航空航天等惡劣環(huán)境；大氣下使用溫度達600℃，真空干燥時可達800℃，機械強度高且抗潮解。

　　三、Hellma材料典型應用領域

　　半導體制造

　　作為248nm與193nm微光刻技術中照明和投影光學的行業(yè)標準材料，直接支撐45nm以下芯片制程精度。

　　天文與空間光學

　　用于高分辨率空間相機、天文望遠鏡的光學元件，以及天基光學器件（如衛(wèi)星載荷），其低應力雙折射特性確保信號傳輸完整性。

　　激光技術

　　激光諧振腔鏡、醫(yī)用激光器（如光學相干斷層成像設備）的核心材料，適配193nm、248nm等準分子激光波長。